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技術(shù)文章
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產(chǎn)品概述LVD-F1是一款適用于實(shí)驗(yàn)室中CVD或DLCVD實(shí)驗(yàn)的導(dǎo)入液體的一款經(jīng)濟(jì)高效的液體蒸發(fā)輸送系統(tǒng)。其液體流量是通過一個(gè)數(shù)字液體泵來控制，最大流量為10ml/min。液體被蠕動(dòng)泵導(dǎo)入到混氣系統(tǒng)后，被系統(tǒng)里的加熱裝置加熱成蒸汽，然后隨導(dǎo)入的氣體被帶入到爐管中。LVD-F1能夠?qū)С龆喾N液體，比如ETOH,SnCl4,TiCl4r,SiHCl3,和Zn(C2H5)2，還有多種有機(jī)物混合。對于研究用...
2021-06-18
渦輪流量計(jì)由渦輪、軸承、前置放大器、顯示儀表組成。渦輪流量計(jì)的原理是在管道中心安放一個(gè)渦輪，兩端由軸承支撐．當(dāng)流體通過管道時(shí)，沖擊渦輪葉片，對渦輪產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力矩，使渦輪克服摩擦力矩和流體阻力矩而產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)．在一定的流量范圍內(nèi)，對一定的流體介質(zhì)粘度，渦輪的旋轉(zhuǎn)角速度與流體流速成正比．由此，流體流速可通過渦輪的旋轉(zhuǎn)角速度得到，從而可以計(jì)算得到通過管道的流體流量．渦輪的轉(zhuǎn)速通過裝在機(jī)殼外的傳感線圈來檢測．當(dāng)渦輪葉片切割由殼體內(nèi)磁鋼產(chǎn)生的磁力線時(shí)，就會引起傳感線圈中的磁通變化．傳感線圈將...
氣氛爐是一種具有控制熱處理過程氣氛的設(shè)備，主要應(yīng)用于金屬、玻璃、陶瓷等材料的加熱和處理。它的工作原理是利用特定的氣體環(huán)境來保護(hù)加熱材料表面，同時(shí)控制材料中的氧氣含量，防止材料氧化、變質(zhì)或受到其他污染。本文將詳細(xì)介紹它的結(jié)構(gòu)、工作原理、應(yīng)用及未來發(fā)展趨勢。一、氣氛爐的結(jié)構(gòu)主要由爐膛、加熱元件、進(jìn)氣口、出氣口、溫度控制系統(tǒng)、氣氛控制系統(tǒng)等組成。其中，爐膛是整個(gè)設(shè)備的核心部分，通常采用耐火材料制成，可承受高溫、高壓和化學(xué)腐蝕。加熱元件則是產(chǎn)生熱源的關(guān)鍵，通常采用電阻絲、電磁線圈等方...
研磨拋光機(jī)是一種常見的機(jī)械設(shè)備，其主要功能是對物體表面進(jìn)行研磨和拋光。這種機(jī)器的出現(xiàn)，更大地提高了工業(yè)生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。一、原理及構(gòu)造研磨拋光機(jī)是由電動(dòng)機(jī)、研磨盤、拋光盤、傳動(dòng)裝置、控制系統(tǒng)等組成的。其工作原理是通過電動(dòng)機(jī)帶動(dòng)研磨盤或拋光盤旋轉(zhuǎn)，使其表面與待加工物體表面產(chǎn)生摩擦，從而實(shí)現(xiàn)對物體表面的研磨和拋光。二、應(yīng)用領(lǐng)域廣泛應(yīng)用于金屬、塑料、陶瓷、石材、玻璃等材料的研磨和拋光。在工業(yè)生產(chǎn)中，被廣泛應(yīng)用于汽車零部件、航空航天零部件、電子產(chǎn)品、儀器儀表等領(lǐng)域的加工和生產(chǎn)中。同...
恒電位儀的運(yùn)行原理電化學(xué)測量系統(tǒng)簡稱為電化學(xué)工作站，為電化學(xué)研究和教學(xué)常用的測量設(shè)備。其主要包括單通道工作站和多通道工作站兩大類，在生物技術(shù)、物質(zhì)的定性定量分析等方面應(yīng)用。從整體上而言，恒電位屬于一個(gè)放大負(fù)反饋的輸出系統(tǒng)，和如埋地管道等被保護(hù)物組成閉環(huán)調(diào)節(jié)，利用參比電極來對通電點(diǎn)電位進(jìn)行測量，作為取樣信號與控制信號相比較，使得極化電流輸出的控制和調(diào)節(jié)得以實(shí)現(xiàn)，使通電電位能夠在設(shè)定的控制電位上得以保持。僅需正確地計(jì)算設(shè)計(jì)放大倍數(shù)，取樣信號特性與儀器輸入輸出特性的線性一致足夠，并...
概述：地質(zhì)薄片內(nèi)賦載了大量原始實(shí)物資料信息，作為地質(zhì)成果的一部分，對實(shí)物地質(zhì)薄片顯微圖像資料進(jìn)行編研，是開發(fā)利用實(shí)物地質(zhì)資料信息的重要手段。摘要：可以形成反映地區(qū)或圖幅范圍內(nèi)的巖石特征的薄片顯微圖像系列成果，展示地區(qū)或圖幅內(nèi)巖石特點(diǎn)，使得對圖像認(rèn)識和說明了解，能具體認(rèn)識巖性特征及分布等，了解地區(qū)工作工作程度服務(wù)，認(rèn)識巖性巖相特征、地區(qū)地質(zhì)礦產(chǎn)條件等，就可以不再重復(fù)取樣，減少不必要的制作浪費(fèi)等；為專家學(xué)者研究某個(gè)地質(zhì)事件，某項(xiàng)地質(zhì)活動(dòng)等提供巖石薄片顯微信息第一手資料，從而為地質(zhì)...
“旋涂機(jī)”是一種利用旋轉(zhuǎn)離心力的涂布裝置，也被稱為“旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)”。對于平滑的被涂物（工件），能夠形成薄且均勻的涂層。旋涂機(jī)的用途非常廣泛，代表性用途包括半導(dǎo)體晶圓的表面處理、光阻涂布等流程類工序，以及光學(xué)媒介涂膜、鏡頭底劑及調(diào)光液的涂布等。A.旋轉(zhuǎn)B.被涂物表面C.涂液將涂液滴落在被涂物（工件）的中心，進(jìn)行高速旋轉(zhuǎn)。加速旋轉(zhuǎn)會對涂液施加離心力，使涂液擴(kuò)散到整個(gè)表面并成膜。涂布膜厚取決于涂液的粘度、被涂物的轉(zhuǎn)速、旋轉(zhuǎn)啟動(dòng)加速度、與干燥速度相關(guān)的排氣。旋涂的原理是依靠旋轉(zhuǎn)離心力將...
手套箱是一種運(yùn)用真空技術(shù)，將氣體壓力調(diào)低，從而實(shí)現(xiàn)溫度、環(huán)境與痕跡控制的工具。它主要由不銹鋼殼、真空系統(tǒng)和手套組成，在各種實(shí)驗(yàn)、生產(chǎn)和制造等領(lǐng)域中廣泛應(yīng)用，已成為科學(xué)儀器的重要組成部分。首先，能夠提供理想的操作環(huán)境，免疫外界污染，保護(hù)操作物質(zhì)不受氧化、水解、碳化等影響。因?yàn)檎婵帐痔紫鋬?nèi)部減壓，內(nèi)部氫氣含量少，而氫氣會對金屬表面形成破壞性作用，而減少氫氣濃度則增加金屬的穩(wěn)定性。此外，不銹鋼材質(zhì)本身具有抗腐蝕、耐高溫等優(yōu)良性能，可充分保證耐用性和穩(wěn)定性。其次，還具有痕跡控制與防爆...
提拉涂膜機(jī)是一種用于包裝行業(yè)的設(shè)備，它的作用是在各種材料表面上涂覆一層薄膜，以提高其保護(hù)性和美觀性。這種設(shè)備的使用范圍非常廣泛，涉及到食品、醫(yī)藥、化妝品、電子等各行各業(yè)中的包裝需求。本文將從原理、類型、優(yōu)點(diǎn)、應(yīng)用等方面進(jìn)行介紹。提拉涂膜機(jī)的工作原理是：將半透明的薄膜卷材放置在機(jī)器的下部，通過裝載卷材，并將其沿著一定的路徑送入機(jī)器內(nèi)部的涂布部分，然后反向運(yùn)動(dòng)，從而涂布生成一層均勻厚度的薄膜。此外，還能根據(jù)不同的材料和需要的效果，調(diào)節(jié)涂布速度、厚度和溫度等參數(shù)，以達(dá)到更好的包裝效...
水熱反應(yīng)釜可手動(dòng)螺旋堅(jiān)固。最高適用溫度為180℃；最高溫度可達(dá)230℃水熱反應(yīng)釜是一種能分解難溶物質(zhì)的密閉容器?？捎糜谠游展庾V及等離子發(fā)射等分析中的溶樣預(yù)處理；也可用于小劑量的合成反應(yīng)；還可利用罐體內(nèi)強(qiáng)酸或強(qiáng)堿且高溫高壓密閉的環(huán)境來達(dá)到快速消解難溶物質(zhì)的目的。是測定微量元素及痕量元素時(shí)消解樣品的得力助手?？稍阢U、銅、鎘、鋅、鈣、錳、鐵、汞等重金屬測定中應(yīng)用，還可作為一種耐高溫耐高壓防腐高純的反應(yīng)容器，以及有機(jī)合成、水熱合成、晶體生長或樣品消解萃取等方面。在樣品前處理消解重...
電解拋光是通過對電流密度，溶液粘度幾溫度的控制，使金屬在電解液中選擇性溶解（低凹處進(jìn)入鈍態(tài)而凸起部位活性溶解）結(jié)合溶液光亮劑和陽極極化作用，達(dá)到電化學(xué)整平拋光的目的。電解拋光過程簡介1.首先采用機(jī)械拋光打磨設(shè)備及工件表面的氧化皮和各種表面缺陷，使被處理表面初步達(dá)到一定的粗糙度。2.再用電解的方式進(jìn)一步提高被處理表面的光潔度。機(jī)械拋光是宏觀消除表面的氧化皮及各種缺陷，而電解拋光是一個(gè)微觀整平的過程，進(jìn)一步提高表面的物化性能。電解拋光的優(yōu)點(diǎn):1.由于電解拋光具有電化學(xué)整平及光亮作...
3分鐘看懂真空管式爐通燒結(jié)氣體操作步驟真空管式爐通燒結(jié)氣體操作步驟:1.首先要注意的就是關(guān)閉工作氣體氣路，將管式爐氣體出口端連接真空泵2.打開真空泵電源，打開出氣閥，抽空管體和氣體管路。3.當(dāng)管式爐真空表到-0.1(指針到盡頭時(shí))，關(guān)閉進(jìn)氣閥。靜置一小時(shí)，管式爐真空表不移動(dòng)仍為-0.1時(shí)，說明管式爐密封性良好，否則要找出漏氣點(diǎn)改正。也可以使用惰性氣體加壓的方式測試氣密性，加壓一般不超過0.05Mpa。4.旋動(dòng)旋鈕開氣瓶主閥，緩慢打開出口減壓閥，使出口氣壓在合理范圍。(壓力表上...
薄膜沉積是在半導(dǎo)體的主要襯底材料上鍍一層膜。這層膜可以有各種各樣的材料，比如絕緣化合物二氧化硅，半導(dǎo)體多晶硅、金屬銅等。用來鍍膜的這個(gè)設(shè)備就叫薄膜沉積設(shè)備。從半導(dǎo)體芯片制作工藝流程來說，位于前道工藝中。薄膜制備工藝按照其成膜方法可分為兩大類：物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積（CVD），其中CVD工藝設(shè)備占比更高。物理氣相沉積（PVD）指將材料源表面氣化并通過低壓氣體/等離子體在基體表面沉積，包括蒸發(fā)、濺射、離子束等；化學(xué)氣相沉積(CVD)是指通過氣體混合的化學(xué)反應(yīng)在硅片表...
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